Специфични апликации на средства за чистење на плазма

Машините за чистење/офорт на плазма генерираат плазма со ставање на две електроди во затворен сад за да се создаде електрично поле. Вакуумска пумпа се користи за одржување на одредено ниво на вакуум. Како што гасот станува сè поретко, растојанието помеѓу молекулите и слободното движење на молекулите или јоните исто така се зголемува. Под влијание на електричното поле, овие јони се судираат и формираат плазма. Овие јони се многу реактивни, со доволно енергија да ги скршат речиси сите хемиски врски, предизвикувајќи хемиски реакции на која било отворена површина. Различни гасни плазми имаат различни хемиски својства. На пример, кислородната плазма е многу оксидирачка, способна да оксидира фоторезист за да произведе гас, со што се постигнува ефект на чистење. Корозивната гасна плазма има одлична анизотропија, која ги задоволува барањата за офорт. Третманот со плазма произведува сјај, па оттука и името празнење со сјај.
Механизмот на чистење на плазмата се потпира првенствено на „активирањето“ на активните честички во плазмата за отстранување на површинските дамки. Во однос на механизмот на реакција, чистењето на плазмата генерално го вклучува следниот процес: неорганските гасови се возбудуваат во состојба на плазма; гасовити материи се адсорбираат на цврстата површина; адсорбираните групи реагираат со молекули на цврстата површина за да формираат молекули на производот; молекулите на производот се распаѓаат во гасната фаза; а остатоците од реакцијата се отстрануваат од површината.

Најзначајната карактеристика на технологијата за чистење на плазма е тоа што може да обработи секаков тип на подлога, вклучувајќи метали, полупроводници, оксиди и повеќето полимерни материјали како што се полипропилен, полиестер, полиимид, поливинил хлорид, епоксид, па дури и политетрафлуороетилен. Може да ја исчисти и целата површина и одредени области, како и сложените структури.